Для измерения интенсивности и углов дифракции рентгеновского излучения, рассеянного на кристаллическом объекте при решении задач рентгенодифракционного и рентгеноструктурного анализа материалов.
Для экспрессного автоматического измерения деформации sin 2f-методом в поверхностных слоях крупногабаритных металлических конструкций произвольной формы и размеров
Для измерения параметров структур высококачественных биологических кристаллов естественного или искусственного происхождения с заданными свойствами и определения формы и структуры элементарной ячейки кристаллов с уточнением положения атомов, для проведения прецизионного рентгеноструктурного анализа (методом рентгеновской дифракции) в аналитических лабораториях промышленного производства (химического, фармацевтического и др.), научно-исследовательских и учебных институтов.